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PL—DW200 半導(dǎo)體等離子表面活化PL—DW200

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PL—DW200表面處理真空等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等。可選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發(fā)生器,以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
等離子清洗機(jī)/刻蝕機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn),主要適合于高科技生產(chǎn)單位的以下場(chǎng)合:
? 半導(dǎo)體開發(fā)
? 集成電路開發(fā)
? 真空電子行業(yè)
? TEM、SEM樣品及支架清洗
? 生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)

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半導(dǎo)體等離子表面活化PL—DW200

PL—DW200表面處理真空等離子清洗機(jī)
PL—DW200表面處理真空等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等??蛇x擇40KHz、13.56MHz2.45GHz三種射頻發(fā)生器,以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
等離子清洗機(jī)/刻蝕機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn),主要適合于高科技生產(chǎn)單位的以下場(chǎng)合:
半導(dǎo)體開發(fā)
集成電路開發(fā)
真空電子行業(yè)
• TEM、SEM樣品及支架清洗
生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)

  等離子清洗/刻蝕機(jī)具有以下特點(diǎn)
可以更靈活地操作,簡(jiǎn)便地改變處理氣體的種類和處理程序。
不會(huì)對(duì)操作人員的身體造成任何傷害。
其成本對(duì)于等離子處理方法來說是微不足道的。
  等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

不銹鋼艙體:400mm×400mm×650mm
容量:200
處理過程:分手動(dòng)與自動(dòng)控制
功率:500W
電源:AC380V
射頻電源:主頻40KHz


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