密閉高低溫循環(huán)裝置槽GDZT-30-200-40高溫切斷、急停、延時、漏電、過流電、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。

密閉高低溫循環(huán)裝置槽GDZT-30-200-40

能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。 
●分3個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。 
●快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。 
●溫度控制范圍寬，全程不需要換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。 
●全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中水分，可延長導熱流體的使用壽命。 
●高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。 
●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。 
●液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。 
●高溫切斷、急停、延時、漏電、過流電、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。 
●冷凝、預熱方式為風冷，節(jié)約水資源。

典型應(yīng)用： 
●化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層反應(yīng)釜的溫度控制。 
●攪拌罐的溫度控制。 
●高壓反應(yīng)釜的溫度控制。 
●材料測試中的應(yīng)用。 
●微反應(yīng)器技術(shù)領(lǐng)域的放大工藝過程的溫度控制。 
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。 
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。 
●大型恒溫控制系統(tǒng)。 
●小型恒溫控制系統(tǒng)。 
●半導體設(shè)備的溫度控制。 
●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。 
●真空室的溫度控制。

技術(shù)參數(shù)：

型號：GDZT-30-200-40 
可配雙層反應(yīng)釜：30L 
諸液槽容積（L）：11 
加熱容積（L）：2 
加熱罐尺寸(mm)：￠90×300 
油箱尺寸(mm)：300*300*120 
使用溫度范圍（℃）：-40/+200 
環(huán)境溫度（℃）：≤25?? 
環(huán)境相對濕度（℃）：≤60 
空載 低溫度：-42℃ 
電源：380V±10%50HZ 
加熱功率（W)：6000 
冷卻功率（W)：4740-1140 
儀表控溫范圍：-100℃-400℃ 
控溫精度（℃）：±0.1 
傳感器：PT100 
介質(zhì)粘度：500C.S.T 
循環(huán)泵功率（w）：280 
揚程（m)：10 
流量（L/min）：35 
壓力（Mpa）：4 
制冷機構(gòu)：采用廠家全封閉壓縮機 
冷媒：R22 
規(guī)格：全封閉無泄露泵 
進出油咀：4＃(低進高出) 
控溫方式：微電腦智能控溫，液晶顯示 
顯示溫度分辨率：在控溫范圍內(nèi)任意設(shè)定，顯示值0.1℃ 
安全保護：有延時、漏電、過電流、過熱保護 
機體材質(zhì)：噴塑防腐 
整機尺寸(mm)：720*650*1120 
重量(KG)：114