應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。
檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
技術(shù)參數(shù)：
光學系統(tǒng)：帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)；
波長范圍：170-580nm
焦距：400mm
探測器：高性能CCD陣列
光源類型：數(shù)字光源，高能預燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率：100-1000Hz
放電電流：400A
工作電源：220VAC 50/60Hz
儀器尺寸：720*860*500mm
儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）
檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右
電極：鎢材噴射電極
分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測
技術(shù)特點：
1.高性能光學系統(tǒng)
2.自動光路校準
3.單板式透鏡設計
4.真空室一體化
5.真空防返油技術(shù)
6.開放式激發(fā)臺
7.噴射電極技術(shù)
8.集成氣路模塊
9.全數(shù)字化激發(fā)光源
10.高速數(shù)據(jù)采集
11.以太數(shù)據(jù)傳輸
12.預制工作曲線
13.分析速度快捷
14.多基體分析
15.軟件多國語言
光學系統(tǒng)
帕型-龍格結(jié)構(gòu)的全譜光學系統(tǒng)
波長范圍（130～850）nm
多個高性能CCD探測器
一體化光學室加工成型，動態(tài)羅檔園安裝，耐環(huán)境溫度變化
真空光室設計，保證C、S、P、N都能達到
光室恒溫控制，恒溫溫度為35℃
直射式光學技術(shù)及透鏡MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長的能量
樣品激發(fā)臺
集成氣路、噴射電極技術(shù)；
優(yōu)化的氬氣氣路設計保證激發(fā)臺的有效冷卻和激發(fā)過程中產(chǎn)生的金屬粉塵有效進入過濾器；使樣品激發(fā)更加穩(wěn)定，并大大減少了人體對金屬粉塵的攝入，有利于保護操作人員的健康；
更小的激發(fā)空間，使氬氣消耗更?。?/span>
便于使用的樣品夾具
具有電極自吹掃功能，使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易
13mm的激發(fā)孔徑更利于樣品分析
開放式樣品激發(fā)臺可適應各種大小、更多形狀樣品的分析（含線材）；
單反式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發(fā)臺進行維護和透鏡的清洗
激發(fā)光源
全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，頻率可達1000Hz；
高能預然技術(shù)（HEPS）；
優(yōu)化設計的控制和功率電路，完善的激發(fā)安全保護功能
為不同分析目標提供火花、電弧或組合激發(fā)波形
放電電流：400A
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
高性能ARM數(shù)據(jù)處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能
高性能CCD固態(tài)檢測技術(shù)，波段內(nèi)的譜線全譜接收
外置式計算機（用戶自選）
FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強大，檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短
分析軟件
基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實用
*管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力
儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*解決方案
軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力
完備的自動系統(tǒng)診斷功能
完善的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)
智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠
完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準
適應Windows操作系統(tǒng)
能夠自動完成數(shù)據(jù)采集、處理、生成office辦公軟件能接受的數(shù)據(jù)格式
實驗室環(huán)境
環(huán)境要求
儀器須放置在實驗室內(nèi)，室內(nèi)面積大于10平方米，并確保周圍無有害、易燃及腐蝕性的氣體。注意事項：禁止將本儀器置于化學分析實驗室內(nèi)。
工作溫度：10℃～30℃，3小時內(nèi)室溫波動小于2℃，要求實驗室安裝空調(diào)。
存儲溫度：0℃～45℃
環(huán)境相對濕度：20%～80%，對于潮濕地區(qū)，需配備一臺去濕機
全譜直讀光譜儀TY-9000的分光室裝在具有溫控裝置的箱體內(nèi)，能在上述環(huán)境范圍內(nèi)正常工作，若超出上述要求范圍，儀器的使用壽命和測量精度將受到影響
電源要求
電源：單相220±20V、1KVA的電源供電。
1kVA～3kVA的單相220V交流參數(shù)穩(wěn)壓器。
為保證儀器可靠使用，用戶必須保證電網(wǎng)的PE保護地良好接地，且與其他大型設備的保護地分開。如果用戶不能保證PE良好接地，請為儀器單獨準備一根地線，要求接地電阻小于4歐姆。
氬氣要求
1.氬氣純度≥99.999%，含氧量≤2ppm，含H2O量≤5ppm，（氬氣瓶不能露天存放，嚴禁雨淋）。如無高純氬氣，建議使用氬氣凈化器。
2.氬氣使用流量：待機流量 約0.1L/min，維持流量約（0.4-0.5）L/min，激發(fā)流量約3.5L/min。
3.氬氣控制壓力：0.5Mpa。
氬氣連接管
必須使用隨機提供的氬氣銅管連接。
排氣瓶
儀器排出的廢氣通過一根14mm內(nèi)徑的PVC增強管排到隨機提供的過濾瓶中。需要及時清理更換以防止出氣不暢。
樣品制備
對于鋁基、銅基等有色金屬樣品必須使用車床制備樣品。
對于鐵基樣品必須使用磨樣機制備樣品，一臺磨樣機及一臺落地式砂輪機，用于鋼鐵試樣表面的打磨。鑄鐵樣品白口化必須均勻。
用戶需要準備一臺切割機，用于外型不適于光譜儀分析的樣品的處理；
被分析樣品必須均勻，無氣孔，無鑄造缺陷,制備必須達到表面平滑，無氧化層，無油污，樣品邊緣無毛刺。
標準樣品要求
隨機附贈一塊光譜校正標準樣品，用于校正儀器的整體光譜漂移。除此之外，用戶需準備適合自己產(chǎn)品類型的標準樣品或內(nèi)控樣品，用于儀器分析曲線的校正。
PC和打印機要求
準備一臺當前常規(guī)配置的PC（筆記本和臺式機均可），要求內(nèi)存1GB以上，CPU雙核1.8G Hz以上，用于安裝分析軟件。
準備一臺打印機，激光、噴墨或針式打印機均可，用于分析數(shù)據(jù)報表的打印。
