HP-N2高純氮?dú)獍l(fā)生器產(chǎn)生實(shí)驗(yàn)室用高純氮?dú)?，適用于絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用和設(shè)備。由于設(shè)計(jì)中已充分考慮安全性和便捷性，HP-N2產(chǎn)生高純氮?dú)?，無(wú)需笨重的高壓鋼瓶。
HP-N2能把空氣中的氧氣濃度降低到10 ppm以下（如選配碳?xì)浠衔锎呋癄t，可將碳?xì)浠衔餄舛冉档?.1 ppm以下）。典型流量為500 ml/min、750 ml/min、1300 mL/min以及4000 ml/min。儀器內(nèi)置智能壓縮機(jī)管理系統(tǒng)。
功能原理：
HP-N2高純氮?dú)獍l(fā)生器需要壓縮空氣?？諝馔ㄟ^(guò)雙柱變壓吸附（PSA）去除氧。當(dāng)一個(gè)干燥柱工作時(shí)，另一個(gè)柱則通過(guò)反向吹掃排除氧氣而實(shí)現(xiàn)自再生。吸附掉的氧氣將排空到大氣中。
下一步，氮?dú)膺M(jìn)入一個(gè)可選的不銹鋼催化爐中，將碳?xì)浠衔锖鸵谎趸嫉臐舛冉档偷?.1 ppm以下。后，用一個(gè)高級(jí)過(guò)濾器來(lái)濾除大于0.5微米的顆粒。當(dāng)氣罐壓力達(dá)到高壓水平時(shí)，壓縮機(jī)停止工作；當(dāng)氣罐壓力水平達(dá)到低壓水平時(shí)，壓縮機(jī)重新工作。
優(yōu)點(diǎn)：
智能壓縮機(jī)管理系統(tǒng)
CH4擦洗機(jī)
可選內(nèi)部壓縮機(jī)
極少量維護(hù)
無(wú)需氣瓶，安全便捷
應(yīng)用：
超純氮?dú)庵饕脕?lái)滿足ICP、ELSD等應(yīng)用，也是各個(gè)實(shí)驗(yàn)室和色譜應(yīng)用完美的氮?dú)夤?yīng)源。
設(shè)備可以內(nèi)置（可選）內(nèi)部壓縮機(jī)。因其自帶氣罐管理，壓縮機(jī)不會(huì)連續(xù)工作，因而會(huì)延長(zhǎng)使用壽命。
可以選擇安裝內(nèi)置催化爐。如安裝催化爐，產(chǎn)生的氮?dú)庵袑](méi)有碳?xì)浠衔?。如果氮?dú)鈶?yīng)用于GC FID探測(cè)器，必須選擇此項(xiàng)。
高純氮?dú)獾膽?yīng)用：
ICP/ELSD
GC/FTIR
培養(yǎng)箱
技術(shù)參數(shù)：
HP-N2 500 流速：500 ml/min 純度 99.999%
HP-N2 750 流速：750 ml/min 純度 99.999%
HP-N2 1300 流速：1300 ml/min 純度 99.99%
HP-N2 4000 流速：4000 ml/min 純度 98%
