產(chǎn)品介紹：
目前國內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原
理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫
速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的
測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀
器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高
反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在
高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。
可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻 ，用
石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真
空，高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高
速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
高溫管式快速爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同
電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升
溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)
間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面
講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。
高溫管式快速爐同高頻爐相比，不需特殊的
安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣
安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)
人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作！
主要用途：
主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、
機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科
研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高
溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦
企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、
真空退火等。
本試驗(yàn)爐具有：1000度、1200
度、1400度各種型號(hào)。也可根據(jù)用戶需求訂
制！
反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加
工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是
橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各
種材料的在溫度制控的條件下的測試。
設(shè)備優(yōu)勢：
高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金
反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配
置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速
冷卻。
溫度控制：過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控
制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)
比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任
何溫度下可提供。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真
空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體 靜態(tài)或
流動(dòng)），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外
線 可傳送到加熱/冷卻室。
應(yīng)用范圍：
1. 電子材料
◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）
◆熱源薄膜形成
◆激活離子注入后
◆硅化物的形成
2. 陶瓷與無機(jī)材料
◆ 陶瓷基板退火爐
◆玻璃基板退火爐。
◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐。
3. 鋼鐵和金屬材料
◆ 薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。
◆ 爐焊接模擬
◆ 高真空熱處理（1000°C以下）
◆ 大氣氣體熔化過程
◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
4. 復(fù)合材料
◆ 耐熱性評(píng)價(jià)爐
◆ 無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
5. 其它
◆ 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐。
◆ 分段分區(qū)控制爐
◆ 溫度梯度爐
◆ 爐氣分析
◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐
