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渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時間, 經(jīng)過伯東*選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 更快達(dá)到其使用要求.
渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COMPexPro205 型 KrF 激光器, 用于原位生長不同材料的多層薄膜. 通過伯東*采購 2臺渦輪分子泵組 Hicube 80 Eco
渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例二: 某大學(xué)采購鎧柏科技 Adnano PLD 系統(tǒng), 使用伯東 Pfeiffer 分子泵和渦輪分子泵組.
上海伯東德國 Pfeiffer HiCube 80 便攜式分子泵組, 可以有效提供原有的真空度水平至半個數(shù)量級或加快抽空時間！
上海伯東 Pfeiffer 分子泵組 HiCube Eco 技術(shù)規(guī)格
泵組型號 | 進(jìn)氣法蘭 | 分子泵
型號 | 抽速
氮?dú)鈒/s | 極限真空
hPa | 前級泵型號 | 前級泵
抽速 m³/h |
Hicube 80 Eco | DN 40 ISO-KF | HiPace 80 | 35 | 1X10-7 | MVP 015-2 | 0.5 |
DN 63 CF-F | HiPace 80 | 67 | 1X10-8 | MVP 015-2 | 1 |
DN 63 ISO-K | HiPace 80 | 67 | 1X10-7 | MVP 015-2 | 1 |
Pfeiffer 渦輪分子泵組整體模塊化設(shè)計, 內(nèi)部集成前級泵和分子泵, "即插即用", 抽速范圍 35 至 685 L/S, 極限真空 5X10-10 hPa, 提供經(jīng)濟(jì)型分子泵組 ECO, 標(biāo)準(zhǔn)型分子泵組 Classic 和高性能渦輪分子泵組 Pro 滿足不同應(yīng)用, *搭配 Pfeiffer 真空計共同使用.
脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 真空泵組
脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 真空泵組
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