價(jià)格電議
HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)
E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), 超導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.
E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子槍, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測(cè)量, 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成.
基片在做實(shí)驗(yàn)前一般需要做鍍前預(yù)處理, 鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備, 要進(jìn)行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶(hù)在 LOADLOCK 腔進(jìn)行射頻反應(yīng)清洗, 通過(guò)使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到更光滑和均勻的表面.
HVA 高真空閘閥應(yīng)用
科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar或 5*10-8mbar, 通過(guò)使用高真空閥門(mén)對(duì) LOADLOCK 與主腔間進(jìn)行真空隔離, 一方面不會(huì)污染基片, 另一方面也使主腔更好的維持真空, 對(duì)于多腔室聯(lián)用的系統(tǒng), 同腔室的隔離更為關(guān)鍵, 而且要保證閥門(mén)的足夠密封, 穩(wěn)定可靠才行. 上海伯東是美國(guó) HVA 真空閥門(mén)中國(guó)總代理.
上圖為美國(guó) HVA 真空閘閥應(yīng)用于某 Sputtering + E-Beam PVD 聯(lián)用系統(tǒng), 閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空, 只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.
上海伯東美國(guó) HVA 高真空閘閥 11000 系列產(chǎn)品
尺寸范圍: 0.625”-24”ID ( DN 16mm-DN 600mm)
接口類(lèi)型: CF(英制) / ANSI / KF / ISO-F / CF(公制 )/ JIS / ISO-K多種接口可選
對(duì)于氣動(dòng)規(guī)格, 電磁閥可選: 24VDC, 120VAC, 220VAC, 24VAC
真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)
真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)
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