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超高溫高速退火爐

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日本Advance Riko公司推出的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃,可對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。應(yīng)用領(lǐng)域 ? SiC氧化膜的生成和激活;? 半導(dǎo)體開發(fā)與研究;? 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理;? 作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理;? 陶瓷材料的熱沖擊測試。

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

產(chǎn)品特點(diǎn)


? 可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃;

? 可以加熱后直接水淬;

? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成;

? 緊湊的桌面型設(shè)計(jì);

? 通過USB與電腦連接,輸入溫度參數(shù);

? 在加熱過程中,在電腦屏幕顯示溫度。


基本參數(shù)


溫度范圍:室溫-1800℃

樣品尺寸:W15mm×L15mm×T1mm

樣品支架:氧化鋁或者高純碳

加熱氛圍:多種

熱電偶:JIS B φ0.3 (W-Re可選)

設(shè)備結(jié)構(gòu)以及樣品支架:






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