| 參考價 | 面議 |
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。應用領域小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發(fā)，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。
Microwriter產(chǎn)品特點
Focus Lock自動對焦功能
| 直寫前預檢查
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標記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
| 光學輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向精度100 nm，方便快捷。
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| 簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。
| Clewin 掩模圖形設計軟件 + 可以讀取多種圖形設計文件 （DXF, CIF, GDSII, 等） + 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 + 書寫范圍只由基片尺寸決定
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Microwriter基本參數(shù)
| Microwriter ML3 | 基本型 | 增強型 | 旗艦型 |
| 大樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
| 大直寫面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
| 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8 |
| （365+405nm雙光源可選） | |||
| 直寫分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
| 直寫速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm | 25mm2/min @ 0.6μm |
| 50mm2/min @ 1μm | |||
| 120mm2/min @ 5μm | 100mm2/min @ 2μm | ||
| 180mm2/min @ 5μm | |||
| 對準顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 and x10 自動切換 | x3, x5, x10, x20 自動切換 |
| 多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
| 小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
| 樣品臺小步長 | 100nm | 100nm | 50nm |
| 光學輪廓Z分辨率 | 無(可升級) | 300nm | 100nm |
| 樣品表面自動對焦 | 是 | 是 | 是 |
| 灰度直寫(255級) | 是 | 是 | 是 |
| 自動晶片檢查工具 | 無(可升級) | 有 | 有 |
| 溫控樣品腔室 | 無 (可升級) | 無 (可升級) | 有 |
| 虛擬模板校準工具 | 無(可升級) | 無(可升級) | 有 |
| 氣動減震光學平臺 | 無(可升級) | 無(可升級) | 有 |
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