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450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品型號(hào)

450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù)

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。

  技術(shù)指標(biāo):

  極限真空度:≤6.7×10 Pa

  恢復(fù)真空時(shí)間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

  系統(tǒng)漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;

  真空室:真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門,后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍:陽(yáng)極電壓:6kv、8kv(1套)

  坩堝:水冷式坩堝,四穴設(shè)計(jì),每個(gè)容量11ml

  功率:0-6KW可調(diào)

  電阻蒸發(fā)源(可選)

  電壓:5、10V

  功率:電流300A,大輸出功率3Kw1套,可切換水冷電

  極3根,組成2個(gè)蒸發(fā)舟

  基片尺寸:可放置4″基片

  樣品臺(tái):基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱溫度 800°C±1°C,可調(diào)手動(dòng)控制樣品擋板組件1套

  氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

  石英晶振膜厚控制儀:監(jiān)測(cè)膜厚顯示范圍:0-99μ9999Å


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