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OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

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產(chǎn)品簡介:OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVDCSS法制作薄膜;其爐管外徑為11″,爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片;OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體頂端和底部,升溫速率高達20/s ,可迅速使爐腔內(nèi)溫度升高;冷卻速率:>10/s,可在鍍膜后使樣品快速降溫;溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制,控溫精度為±1,并且儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內(nèi)配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

 

產(chǎn)品型號

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz(20A空氣開關(guān)),必須有良好

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)

4、工作臺:設(shè)備為落地式,占地面積1m2以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1、為了減小熱輻射和達到快速冷卻的效果,加熱元件被嵌在水冷機構(gòu)上。

2、貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片(Ø76mm×0.5mm),使得樣品基片上的溫度更加均勻。

3、3″石墨坩堝可放于底部加熱元件上,用于盛放蒸發(fā)料

4、真空法蘭通過兩個硅膠O型圈進行密封,通過機械泵其腔內(nèi)真空度可達10-2torr,通過分子泵真空度可達10-5 torr。

5兩個真空法蘭都可以通過手動操作進行上下移動。

6一個數(shù)字式真空顯示計安裝在法蘭頂部,可以精確測量腔內(nèi)真空度。

技術(shù)參數(shù)

1、電源:單相AC208V-240V(需20A的空氣開關(guān))

2、真空腔體:高純石英管,外徑280mm,內(nèi)徑275mm,高229mm

3、加熱元件:兩組IR紅外燈管,額定功率800W,總功率1600W

4、熱電偶:S型熱電偶2個,分別安裝于上下法蘭上

5、工作溫度:兩個加熱區(qū)域單獨工作的溫度≤650℃,兩加熱區(qū)域大溫差≤350

6、加熱速率:>8/s

7、冷卻速率:>10/s600-100℃)

8、真空法蘭:316不銹鋼制作,配有1KF-25接口、21/4軟管接頭

9、真空計:數(shù)字式真空顯示計

可選配件

1、PC控溫軟件

2、兩路混氣系統(tǒng)

3、多路浮子混氣系統(tǒng)

4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng)

5、真空泵

6水冷機


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