Leica EM ACE200 低真空鍍膜儀 2018/06/20 　　Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。特點　　? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）　　? 設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度　　? 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm　　? 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程　　? 觸摸屏控制，簡單方便　　? 真空度≤7×10 -3 mbar　　? 濺射電流：0-150mA可調　　? 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）　　? 工作距離調節(jié)范圍：30mm-100mm

　　Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。

特點

　　? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

　　? 設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度

　　? 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm

　　? 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

　　? 觸摸屏控制，簡單方便

　　? 真空度≤7×10 -3 mbar

　　? 濺射電流：0-150mA可調

　　? 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

　　? 工作距離調節(jié)范圍：30mm-100mm