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德國(guó)海德堡激光直寫系統(tǒng)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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海德堡公司(HeidelbergInstruments簡(jiǎn)稱HIMT)坐落于德國(guó)海德堡市,HIMT成立于1984年,主要生產(chǎn)大小型高精密德國(guó)海德堡激光直寫系統(tǒng)不僅可光繪掩膜板上(photomask),也可以直接光繪在各種基片上(芯片、石英玻璃、陶瓷基板等)。同時(shí)設(shè)備本身具有高精密測(cè)量功能。目前已超過(guò)200多臺(tái)設(shè)備在*安裝使用,設(shè)備*大加工面積達(dá)70"X90"詢問(wèn)及索取技術(shù)資料!

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

德國(guó)海德堡激光直寫系統(tǒng)-DWL66激光直寫光繪系統(tǒng),是海德堡公司考慮到客戶低成本投入,及增加與客戶互動(dòng)關(guān)系理念下所設(shè)計(jì)的機(jī)臺(tái),雖價(jià)格不高,但他仍然維持了高精密的光繪品質(zhì),在微影技術(shù)與光學(xué)領(lǐng)域的研究發(fā)展上都獲得了客戶相當(dāng)?shù)臐M意口碑。同時(shí)重接單到持續(xù)增加中,更證明了DWL66系統(tǒng)的設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)理念,用*小的花費(fèi)提升*高的附加價(jià)值。

技術(shù)參數(shù):

加工零件尺寸:150X150mm

圖頭焦距 Write Lens

2mm

4 mm

10 mm

20 mm

40 mm

*小線寬或間距 Minimum Feature

0.6um

1µm

2.5 µm

5 µm

10 µm

書(shū)寫格網(wǎng) Write Grid

20nm

40 nm

100 nm

200 nm

400 nm

CD均勻度 CD Uniformity

80nm

100 nm

220 nm

440 nm

880 nm

線寬均勻度 Line width Uniformity

100 nm

200 nm

400 nm

600 nm

1000 nm

線邊粗糙度 Edge Roughness

60 nm

80 nm

120 nm

180 nm

280 nm

對(duì)準(zhǔn)精度 Alignment Accuracy

200 nm

250 nm

500 nm

1 µm

2 µm

定位精度 Position Accuracy

0.4 um

0.6 µm

1 µm

1.5 µm

2 µm

讀寫時(shí)間 Writing time ( 80x80 mm)

70 hour

19 hour

3 hour

0.9 hour

0.3 hour


Applications
應(yīng)用范圍
該激光圖形發(fā)生系統(tǒng)用于涂有光刻膠的各種基片,玻璃,硅片,或其他平面材料。
RETICLE(分劃板),ASICS(晶片),MEMS(微機(jī)電系統(tǒng)),SENSOR
(傳感器),
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光學(xué)), MOEMS(微光機(jī)電
),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS(集成光學(xué)), µTASSAW ect.


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