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蔡司場發(fā)射掃描電鏡SIGMA 500

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蔡司場發(fā)射掃描電鏡SIGMA 500




詳細描述:

 品牌:卡爾·蔡司

 型號:SIGMA 500

 制造商:德國卡爾蔡司公司

 經(jīng)銷商:歐波同有限公司

免費:


【品牌故事】 

     世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和Zeiss。積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經(jīng)驗,電子光學成像技術在世界上創(chuàng)造了數(shù)個里程碑:

    -與AEG公司合作實現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化(1949)
    -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上*具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM(1956)
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡,用戶利用
    -該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片(1984)
    -配用靜電電磁物鏡(Gemini技術)的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場(1993)
    -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡(2003)
    -推出具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的設計,融合歐洲*的制造工藝, 造就了該品牌在光電子領域的地位。自成立至今,一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有廣泛的專有技術,隨著離子束技術和基于電子束的 分析技術的加入,可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、 高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內(nèi)廣大用戶的信賴與認可。

    作為一家電子光學產(chǎn)品提供商,我們將為您提供完善的納米技術解決方案,并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機構,卡爾 蔡司在高質(zhì)量電子光學系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻。

【核心技術】
        
蔡司公司推出的Sigma 500場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統(tǒng)設計,分辨率超過0.8nm,為您提供分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學設計使您可以獲取*的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測器的選擇使Sigma500可以精準的匹配您的應用程序:您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。

【技術參數(shù)】

分辨率:0.8nm@30kV STEM 

                 0.8nm @15 kV   

                 1.4 nm @1kV

放大倍數(shù):10-1,000,000×

加速電壓:調(diào)整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實現(xiàn))

探針電流: 3pA~20nA(100nA選配)  穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h

低真空范圍:2-133Pa(Sigma 500VP可用)

樣品室: 358 mm(φ),270.5 mm(h)

樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動
               
                 X=130mm
                 Y=130mm
                 Z=50mm
                 T=-4°-70°
                 R=360°

系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

存儲分辨率:32k x 24k pixels

【產(chǎn)品應用】   
        
掃描電鏡廣泛用于材料科學(金屬材料、非金屬材料、納米材料)、冶金、生物學、醫(yī)學、半導體材料與器件、地質(zhì)勘探、病蟲害的防治、災害(火災、失效分析)鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業(yè)生產(chǎn)中的產(chǎn)品質(zhì)量鑒定及生產(chǎn)工藝控制等。在材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料等領域,進行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體/晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。



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