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LT3B-OM UHV顯微型連續(xù)流低溫恒溫器

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具體成交價以合同協(xié)議為準

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LT3B-OM恒溫器專為UHV顯微拉曼設計,可烘烤至150℃,所有法蘭通用銅片密封。也適用于其它各類低振動要求的光學顯微實驗。窗口專為科學實驗而設計,可現(xiàn)場更換。

 

典型應用

• 光學顯微

• 顯微拉曼

• 量子點

• 光致發(fā)光

• 顯微-光致發(fā)光

• 光電實驗

• 磁光實驗

 

典型特點

• 連續(xù)可調(diào)樣品高度

• 1.52英寸的高度

• 納米級振動

• 液氦流

• 基質(zhì)熱交換

• 同軸流屏蔽層流

• 4 K 液氦操作 (泵抽可達1.7 K)

• 4.2K下液氦消耗率為0.7 LL/hr 

• 兼容液氮(77 K操作)

• 流量控制

 

標準結構

• LT3-OM冷臺

• 同軸流動液氦傳輸管線

• 不銹鋼儀表群

• 杜瓦置適配器

• 流量板面用于液氦流速控制及優(yōu)化

• 鎳鍍金無氧銅防熱輻射屏

• 供溫度測試和控制的儀表群:

• 10 針密封電學接頭

• 36 歐姆片狀加熱器

• 為控溫而備的精度為± 0.5 K的硅二極管溫度計

• 精度為±12 mK的校準型硅二極管溫度計(帶4英尺線纜供樣品的測試)

• 用于光學實驗的平板樣品座

• 溫控儀

 

可選配置及升級選項

• 傳輸升級

• 為于磁體室溫孔匹配

• 液氦傳輸管線

• 高溫臺

• 更高溫臺

• 可定制溫度計結構

• 可定制接線結構

• 可定制窗口材料

• 可定制樣品座

 

技術參數(shù)

冷卻技術

LT3B

開環(huán)制冷,Helitran

制冷方式

液氦流

制冷劑

液氦,可兼容液氮

溫度

LT3B

< 4.2K - 350K (泵抽情況下<2K)

800K高溫臺

(低溫+2K-700K

450K高溫臺

低溫-450K

溫度穩(wěn)定性

0.002K

樣品空間

直徑

大,開放式防熱輻射屏

高度

大,開放式防熱輻射屏

 

恒溫器型號

LT3B

制冷劑

液氦

低溫度

4.2K

泵抽情況下<2K

4.2K下液氦消耗

0.7LL/hr

 

制冷量

0.7LL/hr

2LL/hr

4.2K

0.5W

1.5W

20K

3.0W

8.0W

50K

7W

20W

制冷時間

20分鐘

 

結構圖

 

 

典型案例

 

麻省理工學院的Comin實驗室,LT3B OM低溫恒溫器安裝在兩維移動平臺上用于樣品校準。
由Riccardo Comin教授提供。

裝在Horiba拉曼光譜儀上用于超高真空環(huán)境的LT3B-OM

 

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