Q300T T Plus三靶大腔室全自動(dòng)濺射鍍膜儀
Q300T T Plus用于200 mm直徑（8英寸）以下的大樣品或多個(gè)小樣品，是一個(gè)大腔室渦輪泵濺射鍍膜系統(tǒng)，適合薄膜研究和普通掃描電鏡/場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡樣品制備應(yīng)用。它配有三個(gè)獨(dú)立的濺射頭，以確保單個(gè)大樣品或多個(gè)小樣品的均勻沉積。對(duì)于小樣品的經(jīng)濟(jì)的鍍膜，可選擇“單靶”模式。Q300T T Plus被設(shè)計(jì)成濺射一系列氧化和非氧化（貴金屬）的金屬靶材，標(biāo)配三塊57 mm直徑x 0.3 mm厚度的相同的鉻（Cr）靶。請(qǐng)注意：不能用Q300T T Plus將每個(gè)濺射頭配置三種不同的濺射金屬去實(shí)現(xiàn)三層連續(xù)鍍膜！
有關(guān)連續(xù)鍍制兩層不同材料的膜層，請(qǐng)參閱Q300T D Plus。其它大腔室鍍膜儀，請(qǐng)參閱K975X/K975S以及Q300T ES Plus。
儀器特點(diǎn)：
• 極限真空5 x 10-5mbar或更優(yōu)
• 電容式觸摸屏，靈敏度高，更易觸控使用；用戶界面軟件全面更新，使用現(xiàn)代智能手機(jī)技術(shù)界面
• 全面的文字幫助頁(yè)面
• USB接口可輕松進(jìn)行軟件更新，也可將配方文件備份/復(fù)制到USB存貯器
• log文件格式為.csv，內(nèi)含日期、時(shí)間和工作參數(shù)，可導(dǎo)出至Excel或類似軟件中分析
• 允許多用戶輸入和儲(chǔ)存鍍膜方案，并可根據(jù)近的使用情況來(lái)排列每個(gè)用戶的配方
• 16GB內(nèi)存，雙核ARM處理器，可實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)的顯示；帶觸摸屏按鈕的全圖形界面，包括近使用的1000個(gè)鍍膜日志等功能
• 帶內(nèi)爆防護(hù)罩的可拆卸玻璃腔室，可選高腔室
• 多種樣品臺(tái)可選
• 三個(gè)相同靶材的大面積濺射頭；磁控冷濺射；脈沖清潔用于濺射Al（鋁）
• 可選的膜厚監(jiān)控附件（FTM）
• 大而多色的LED指示燈，實(shí)現(xiàn)可視化狀態(tài)指示；程序完成后具有音頻聲音提示
*應(yīng)用：
• 理想的大面積濺射鍍膜應(yīng)用
• 晶圓檢驗(yàn)
• 選用“單靶”模式，實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)的鍍膜應(yīng)用
• 可濺射各種易氧化和非易氧化金屬，用于薄膜及掃描電鏡多樣品制備
Q300T T Plus是英國(guó)Quorum出品的認(rèn)可的Q系列鍍膜儀的一部分，數(shù)千家客戶使用此類鍍膜儀。Q系列旨在為SEM、TEM和薄膜應(yīng)用提供高質(zhì)量的鍍膜解決方案，Q系列功能多樣、價(jià)格合理且易于使用。這些產(chǎn)品科研用途。
Q Plus系列鍍膜儀也有較小腔室的版本，請(qǐng)參閱：Q150R Plus、Q150T Plus以及Q150V Plus；SC7620和Q150GB也是可選的型號(hào)。
