北京華科易通HK-8100型ICP電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)。HK－8100型ICP電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是我司在傳統(tǒng)ICP電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)的基礎(chǔ)上，吸收技術(shù)成果研究開發(fā)高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的ICP光譜儀。

北京華科易通HK-8100型ICP電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)。HK－8100型ICP電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是我公司在傳統(tǒng)ICP電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)的基礎(chǔ)上，吸收技術(shù)成果研究開發(fā)高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的ICP光譜儀。 
HK－8100型ICP光譜儀整機(jī)技術(shù)指標(biāo)： 
（1） 分析速度一分鐘分析zui快掃描20個(gè)元素以上 
（2） 掃描范圍： 掃描范圍可選180~800nm、方式為正弦桿，由計(jì)算機(jī)控制的脈沖馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，zui小掃描步距0.0005nm 
（3） 波長(zhǎng)示值誤差和重復(fù)性：波長(zhǎng)示值誤差：± 0.05nm 重復(fù)性<= 0.005nm 
（4） 相關(guān)系數(shù) >0.9998 
（5） 精密度：高 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD<1.5% 
（6） 穩(wěn)定性： 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD<2.0% 
（7） 測(cè)量范圍： 超微量到常量 
（8） 檢出限低 ppb（ug/L）級(jí)（部分元素檢出限見附錄一） 
（9） 分析元素多 可對(duì)72種金屬元素和部分非金屬元素（如B、P、Si、Se、Te）進(jìn)行定量或定性分析 
（10） 測(cè)量方式 單、多元素順序測(cè)量 
（11） 功率 800W－1200W 可調(diào) 
射頻發(fā)生器（RF） 
（1） 電路類型：電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐?、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率 反饋信號(hào)，進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制。 
（2） 工作頻率：40.68MHz ± 0.05 
（3） 頻率穩(wěn)定性：<0.1 
（4） 輸出功率：800－1200W 
（5） 輸出功率穩(wěn)定性：<0.3 
分光器 
（1） 光路： Czerny－Turner 
（2） 焦距： 1000mm 
（3） 光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600線/mm, 刻線面積：80× 110mm 
（4） 線色散率倒數(shù)： 0.26nm 
（5） 分辨率： 0.006nm（全部波段） 
（6） 掃描波長(zhǎng)范圍：180nm－800nm 
（7） 步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)zui小步距： 0.0005nm 
（8） 出射、入射狹縫：20um 、25um 
（9） 反射鏡規(guī)格： （78×105×16）mm