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CVD銅基單層氮化硼薄膜

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公司名稱 上海巨納科技有限公司
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更新時間 2020/12/26 13:56:24
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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

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Single layer h-BN （Boron Nitride） monolayer thick film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct bａnd gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms.

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Single layer h-BN (Boron Nitride) monolayer thick film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct bａnd gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms. Our h-BN CVD process has been adopted in order that defect density has been kept low (~1E10-1E11 cm-2) and single domain sizes have been increased to reduce 1D grain boudary defect concentrations. Monolayer h-BN sheets measure ~5cm x 5cm or ~2x2 inches in size.

Properties of h-BN