紅外高溫爐是華測的工程師通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。

紅外高溫爐

一、紅外高溫爐簡介：

     紅外高溫爐的反射鏡是具有曲率，采用5軸加工系統(tǒng)加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

溫度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度（遠比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

二、紅外高溫爐簡介設備配置

三、紅外高溫爐應用范圍

1. 電子材料

半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2.陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

陶瓷張力、撓曲試驗退火爐

3.鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000℃以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4.復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

5.其它

高溫拉伸壓縮試驗爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐