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場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF-3300

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日立的冷場發(fā)射電子源和300 kV加速電壓技術(shù)共同打造了超高分辨率成像和高靈敏度分析功能。雙棱鏡全息技術(shù)，空間分辨電子能量損失譜以及高精度平行納米電子束衍射技術(shù)開辟了高效，高精度樣品分析的新途徑。

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場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF-3300

日立的冷場發(fā)射電子源和300 kV加速電壓技術(shù)共同打造了超高分辨率成像和高靈敏度分析功能。雙棱鏡全息技術(shù)，空間分辨電子能量損失譜以及高精度平行納米電子束衍射技術(shù)開辟了高效，高精度樣品分析的新途徑。

特點(diǎn)

分辨率

0.1 nm(晶體點(diǎn)陣)
0.19 nm(點(diǎn)對點(diǎn))
0.13 nm(信息極限)

放大倍數(shù)

200倍 至 1,500,000倍

加速電壓

300 kV, 200 kV*, 100 kV*

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  • 聚焦離子束
  • TEM/SEM樣品的前處理裝置


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