大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層柵極設計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離子源本體和電源控制器.
-------------- 離子源自動控制器 --------------   -------- 射頻離子源 RFICP 380 本體 ----

射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設計
3. 離子光學, 自對準技術(shù), 準直光束設計, 自動調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV

射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)規(guī)格:

射頻離子源 RFICP 380 尺寸:


大口徑射頻離子源典型應用:
射頻離子源安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)

在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國 KRI 射頻離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國 KRI 射頻離子源, 樣品無崩邊

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項 . 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解 KRI 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅先生                               中國臺灣伯東: 王小姐