本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測(cè)量方法，測(cè)量時(shí)不損傷工件表面，能快速測(cè)得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計(jì)算出測(cè)量結(jié)果。適用于測(cè)量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度；標(biāo)尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌；磁（光）盤、磁頭表面結(jié)構(gòu)測(cè)量；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測(cè)量等等。由于儀器測(cè)量精度高，具有非接觸和三維測(cè)量的特點(diǎn)，并采用計(jì)算機(jī)控制和快速分析、計(jì)算測(cè)量結(jié)果，本儀器適用于各級(jí)測(cè)試、計(jì)量研究單位工礦企業(yè)計(jì)量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等。
一、產(chǎn)品特點(diǎn)
本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測(cè)量方法，測(cè)量時(shí)不損傷工件表面，能快速測(cè)得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計(jì)算出測(cè)量結(jié)果。適用于測(cè)量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度；標(biāo)尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌；磁（光）盤、磁頭表面結(jié)構(gòu)測(cè)量；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測(cè)量等等。
由于儀器測(cè)量精度高，具有非接觸和三維測(cè)量的特點(diǎn)，并采用計(jì)算機(jī)控制和快速分析、計(jì)算測(cè)量結(jié)果，本儀器適用于各級(jí)測(cè)試、計(jì)量研究單位工礦企業(yè)計(jì)量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等。
二、技術(shù)參數(shù)
表面微觀不平深度測(cè)量范圍
在連續(xù)表面上，相鄰二象素之間沒有大于1 / 4 波長(zhǎng)的高度突變時(shí)：1000 一1nm
相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長(zhǎng)的高度突變時(shí)：130 一1nm
測(cè)量的重復(fù)性：δRa ≤0.5nm
物鏡倍率:40X
數(shù)值孔徑:Φ 65
工作距離:0.5mm
儀器視場(chǎng) 目視: Φ0.25mm
攝象: 0.13×0.13mm
儀器放大倍數(shù) 目視: 500×
攝象（計(jì)算機(jī)屏幕觀察）一2500×
接收器測(cè)量列陣:1000X1000
象素尺寸:5.2×5.2µm
測(cè)量時(shí)間采樣（掃描）時(shí)間:1S
儀器標(biāo)準(zhǔn)鏡 反射率（高）: ～50 %
反射率（低）: ～4 %
照明光源:白熾燈6V 5W
綠色干涉濾光片波長(zhǎng):λ≒530nm
半寬度λ≒10nm
主顯微鏡升程:110 mm
工作臺(tái)升程:5 mm
X 、丫方向移動(dòng)范圍: ～10 mm
工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)范圍:360°
工作臺(tái)頃斜范圍：±6°
計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：P4 , 2 .8G 以上，內(nèi)存1G以上17寸純平顯示器
