| 參考價 | 面議 |
產(chǎn)品簡介：VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空，使樣品在真空的狀態(tài)下進行涂膜，適用于在空氣中易氧化變質(zhì)的薄膜材料的使用。VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設(shè)備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)不同，使設(shè)備緩慢提升速度限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節(jié)約材料。VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機 | ||
| 產(chǎn)品型號 | VTC-200PV | ||
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有進出水口 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：不需要 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：需要 | ||
| 主要特點 | 1、設(shè)有12組程序，每組包含6個運行階段，每段增減速率設(shè)置范圍：100—2000rpm/s,每段時間范圍：0—60s。 2、樣品可采用真空吸附的方式進行固定，也可采用粘結(jié)或夾持的方式進行固定，操作簡便。 3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。 4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。 5、根據(jù)樣件規(guī)格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。 6、電機采用直流無刷電機，無級調(diào)速，可靠性高，適應性強，維修與保養(yǎng)簡單，噪音低，震動小，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，啟動快速穩(wěn)定，加速后運行平穩(wěn)，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。 7、當用真空吸附方式固定樣品時采用無油雙杠真空泵，體積小巧、結(jié)構(gòu)簡單、操作容易、維護方便、不會污染環(huán)境等優(yōu)點。 8、可在惰性氣體氣氛下進行涂層 9、可在真空狀態(tài)下進行涂層，此時需要用粘接基片或夾持基片的方式對被涂基片進行固定。 10、腔體通體采用聚丙烯材質(zhì)，使用壽命更長，提高耐化學腐蝕性和優(yōu)異的抗應力開裂性能。 11、全英文操作系統(tǒng)。 12、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結(jié)束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止. 13、控制器采用控制箱，液晶顯示數(shù)值，更直觀可靠。 | ||
| 技術(shù)參數(shù) | 1、功率：350W/24V 2、轉(zhuǎn)速：500rpm-6000rpm 3、時間：1s-60s 4、腔體真空度可達1Torr（VRD-8機械泵連續(xù)工作） | ||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：Ø250mm×290mm；重量：25kg | ||
| 標準配件 | 1 | 真空吸盤 | 1個 |
| 2 | 夾持吸盤
| 1個 | |
| 3 | 無油真空泵 | 1臺 | |
| 可選配件 | VRD-16機械泵 移液器 其它尺寸的真空吸盤 | ||
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