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返回產品中心> 公司介紹： NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發(fā)與銷售經驗。在范圍內，通過與眾多來自同步輻射科學，阿秒科學，高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作，積累了大量的設計與制造技術，其產品在業(yè)內享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率，高聚光效率等特點，適合被各種輻射光設施使用。另外，分辨率測試卡被當作業(yè)界的標準。不只是學術研究，在X射線的檢查裝置開發(fā)現場也被廣泛使用。XUV鏡片，XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助，對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X射線領域給予客戶在研發(fā)上的幫助。 產品介紹： 因為NTT-AT公司的多層反射鏡質量高，所以一直被世界上的研究機構所選用。本公司定制多層材料和結構，滿足用戶的基板、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規(guī)格。還應對耐高溫多層反射鏡。利用同步加速器設備的反射率評估服務也可作為選項提供。 XUV多層反射鏡（EUV多層反射鏡） 基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環(huán)面、橢圓面 基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（標準值為1英寸） 產品示例 Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率。 Φ10毫米平面反射鏡 用于泵浦探測試驗的多層反射鏡 測量寬帶反射鏡、 EUV寬帶橢圓面反射鏡 No Design name AOI pol. peak energy reflectivit bandwidth (FWHM) 1 HR-98-3.4 5 deg s 98 eV 12.7 nm 67.7% 3.4 eV (0.4 nm) 2 HR-95-3.8 5 deg s 95 eV 13.1 nm 67.7% 3.8 eV (0.5 nm) 3 HR-90-3.8 5 deg s 90 eV 13.8 nm 68.0% 3.8 eV (0.6 nm) 4 HR-85-4.0 5 deg s 85 eV 14.6 nm 66.8% 4.0 eV (0.7 nm) 5 HR-80-4.0 5 deg s 80 eV 15.5 nm 63.3% 4.0 eV (0.8 nm) 6 HR-75-4.6 5 deg s 75 eV 16.5 nm 54.5% 4.6 eV (1.0 nm) 7 HR-70-5.0 5 deg s 70 eV 17.7 nm 47.5% 5 eV (1.2 nm) 8 HR-70-2.6 5 deg s 70 eV 17.7 nm 52.1% 2.6 eV (0.7 nm) 9 HR-65-2.6 5 deg s 65 eV 19.1 nm 48.5% 2.6 eV (0.8 nm) 10 HR-60-2.8 5 deg s 60 eV 20.7 nm 43.7% 2.8 eV (1.0 nm) 11 HR-55-3.6 5 deg s 55 eV 22.5 nm 37.3% 3.6 eV (1.5 nm) 12 HR-50-4.2 5 deg s 50 eV 24.8 nm 30.9% 4.2 eV (2.1 nm) 13 HR-48-2.0 5 deg s 48 eV 25.8 nm 50.6% 2.0 eV (1.1 nm) 14 HR-45-2.4 5 deg s 45 eV 27.6 nm 48.4% 2.4 eV (1.4 nm) 15 HR-40-2.6 5 deg s 40 eV 31.0 nm 44.8% 2.6 eV (2.0 nm) 16 HR-35-2.6 5 deg s 35 eV 35.4 nm 43.1% 2.6 eV (2.6 nm) 17 HR-30-3.0 5 deg s 30 eV 41.3 nm 41.2% 3.0 eV (4.1 nm) 18 HR45-90-6.0 45 deg s 90 eV 13.1 nm 66.1% 6.0 eV (0.9 nm) 19 HR45-80-7.4 45 deg s 80 eV 15.5 nm 60.0% 7.4 eV (1.4 nm) 20 HR45-70-36.0 45 deg s 70 eV 17.7 nm 49.0% 3.6 eV (0.9 nm) 21 HR45-60-5.4 45 deg s 60 eV 20.7 nm 40.8% 5.4 eV (1.8 nm) 22 HR45-50-10.0 45 deg s 50 eV 24.8 nm 30.0% 10.0 eV (5.1 nm) 23 HR45-40-5.0 45 deg s 40 eV 31.0 nm 44.4% 5.0 eV (3.8 nm) 24 HR45-30-7.0 45 deg s 30 eV 41.3 nm 42.5% 7.0 eV (9.3 nm) 天文學 XUV光電子光譜 XUV顯微 EUV光刻 等離子體物理 阿秒科學
基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）、SiC/Mg（25eV至50eV）、Cr/C（至300eV）等
NTT-AT公司的XUV反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。
測量的Mo/Si多層的反射率
（正入射角：2度）
窄帶反射鏡（波長：30納米）的反射率
（Φ100毫米zero dewer）
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