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高分辨率FEB測長儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)

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公司名稱 日立集團(tuán)
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型號(hào)
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廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2023/2/16 8:05:25
訪問次數(shù) 202

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

適用于1Xnm級(jí)開發(fā)以及22nm級(jí)量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000CG5000革新了運(yùn)送類系統(tǒng)，并通過對(duì)電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良，實(shí)現(xiàn)了有史以來（注1）的分辨率，處理能力，測長再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強(qiáng)化了自動(dòng)校準(zhǔn)功能，提供了長期穩(wěn)定的運(yùn)行率。另外，CG5000采用新測長技術(shù)及應(yīng)用，可應(yīng)用于使用新流程/新材料時(shí)所面臨的測長課題，也可全面適用于1Xnm級(jí)設(shè)備的開發(fā)。（注1）自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來，公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言

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高分辨率FEB測長儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)

適用于1Xnm級(jí)開發(fā)以及22nm級(jí)量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000

CG5000革新了運(yùn)送類系統(tǒng)，并通過對(duì)電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良，實(shí)現(xiàn)了有史以來（注1）的分辨率，處理能力，測長再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強(qiáng)化了自動(dòng)校準(zhǔn)功能，提供了長期穩(wěn)定的運(yùn)行率。
另外，CG5000采用新測長技術(shù)及應(yīng)用，可應(yīng)用于使用新流程/新材料時(shí)所面臨的測長課題，也可全面適用于1Xnm級(jí)設(shè)備的開發(fā)。
（注1）自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來，公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言

特點(diǎn)

高生產(chǎn)性

此裝置革新了運(yùn)送機(jī)器的結(jié)構(gòu)構(gòu)成（包括裝、卸部件以及平臺(tái)速度和停止精度的提高），實(shí)現(xiàn)AF的高速化，通過可變像素實(shí)現(xiàn)測長區(qū)域的化，從而縮短MAM時(shí)間，與以往相比，提高了約40%的處理能力。

高分辨率

此裝置通過改良電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)（降噪，改善邊緣銳度，圖像內(nèi)部暗部強(qiáng)調(diào)），改善了Image Sharpness。

長期穩(wěn)定性

再現(xiàn)性
此裝置通過電子光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定化，以及增加計(jì)量類型，可以實(shí)現(xiàn)測長區(qū)域的可設(shè)定性的可變像素，達(dá)到較高的再現(xiàn)性。
匹配
此裝置使用平臺(tái)上的專用樣品，通過開發(fā)的多種自動(dòng)校準(zhǔn)功能，實(shí)現(xiàn)了長期穩(wěn)定的匹配性能。
特別是顯著改善了CG5000同一型號(hào)間的機(jī)型差異，實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)線管理的穩(wěn)定化。