Talint EDU: 模塊化、高性價比的X射線相襯、暗場成像套件
X射線相位襯度成像和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠為輕元素樣品提供更高的襯度，特別適合用于對軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。
目前，主要的5類相襯成像方式中，大部分對光源的相干性要求，只能在同步輻射光源或者借助微焦點X射線源實現(xiàn)。而光柵法相襯成像，經(jīng)過十多年的發(fā)展，已經(jīng)成為在實驗室實施相襯成像實驗的主流技術(shù)路線。
但是，高深寬比和大視場光柵的制作一直是困擾研究人員的一個痛點，LIGA技術(shù)的出現(xiàn)及成熟，使得制作此類的光柵的制作變得更加的容易及可靠。
基于X射線相襯成像的光柵利用Talbot自成像效應(yīng)來獲取有關(guān)X射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息。這在醫(yī)學(xué)成像到材料研究等各個領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用。
但是對于剛進(jìn)入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者想單純快速相襯圖片的用戶來說，繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開模制作光柵價格昂貴、與此同時精密平移臺的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費大量的精力。
為了解決的這個問題，德國microworks公司推出了一套模塊化、高性價比的X射線相襯、暗場成像套件
TALINT EDU
Microworks的TALINTEDU系統(tǒng)是一種緊湊、物美價廉的TALbot干涉儀套件。它是X射線Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件來建立和微調(diào)干涉儀，以及通過相位步進(jìn)步驟來獲得三種成像模式應(yīng)用：吸收成像、相襯成像和暗場成像。
在不到半小時的時間內(nèi)，它可以像另一個探測器一樣容易安裝。 對于這個簡化的系統(tǒng)來說圖 像采集是手動的，在相位步進(jìn)過程中獲得的圖像非常適合于圖像分析科學(xué)家。
