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XAU-4CS光譜分析儀 SDD探測(cè)器

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XAU-4CS光譜分析儀測(cè)量面積:最小0.03mm2

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XAU-4CS光譜分析儀

測(cè)量面積:最小0.03mm2;電鍍層分析:23層鍍層24種元素;儀器特點(diǎn):RoHS鹵素有害元素;儀器優(yōu)勢(shì):同元素不同層分析

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性能優(yōu)勢(shì):

1.微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.03mm2(加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm2)

2.變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm

3.的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量。   

4.的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。   

5.高性能探測(cè)器:SDD硅漂移窗口面積25mm2探測(cè)器。   

6.X射線裝置:微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置。 

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測(cè)厚儀的光路交換裝置,讓X射線和可見光攝像同一垂直線,達(dá)到視覺與測(cè)試定位一體,且X光擴(kuò)散度??;與EFP軟件配合達(dá)到對(duì)焦、變焦雙焦功能,實(shí)現(xiàn)高低、凹凸不平各種形狀樣品的測(cè)試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差,同時(shí)特征X射線可以穿透測(cè)試更厚的表層。

的EFP算法

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

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RoHS檢測(cè)及標(biāo)定

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