PICOSUN™P-1200 PICOSUN™ P-1200原子層沉積系統(tǒng)專門對批量的大尺寸平面基底進行低溫薄膜沉積， 應用于有機光電和顯示器等領域。

PICOSUN™ P-1200 ALD系統(tǒng)專門對批量的大  尺寸平面基底進行低溫薄膜沉積， 應用于有機光電、顯示器和OLED等領域。主要的應用包括制備各種各樣的鈍化層和阻擋層， 顯著提高器件的性能和壽命。巧妙、創(chuàng)新的設計使 得PICOSUN™ P-1200 ALD系統(tǒng)在具有制備高  均一性的高質量ALD薄膜的同時能夠有很高  的產(chǎn)量， 并且是市場上保養(yǎng)、維護時間， 購置成本最小的ALD系統(tǒng)。這些都已經(jīng)在實際 生產(chǎn)中得到證實。

可靠、快速且易于維護的PICOSUN™ P-1000 ALD系統(tǒng)代表了的工業(yè)化ALD工藝水平！

襯底尺寸和類型

?    400x 500 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）

?    370x 470 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）

?    柔性襯底的臥式批量加工

工藝溫度和產(chǎn)率

?    50 – 120°C

?    產(chǎn)量達到168片/24h (100nm Al2O3)

標準工藝

?    低溫沉積Al2O3等薄膜材料

基片裝載

?    半自動裝卸

?    預真空室配備溫度控制器（25 - 80 °C），以達 到產(chǎn)量和水分污染

前驅體

?    液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源

?    源瓶余量傳感器，提供清洗和裝源服務

?     7根獨立源管線， 最多加載10個前驅體源