一、儀器用途介紹：

蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科（地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、 牙科、熱分析學）領域，從事研究、分析、和觀察使用。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀 態(tài)和各種變化和。該儀器采用人性化“傻瓜”設計，自動化程度高，操作簡單，技術，性能優(yōu)秀，結構新穎可靠，在該領域處于水平。

二、CK-850型850度高溫熱臺技術參數(shù)：

詳細描述：

1）溫度范圍：室溫~850 ℃
2）觀察光孔：φ1.7 mm
3）升溫速率：100 ℃/min測 溫：熱電偶
4）溫度顯示精度和穩(wěn)定度：1 ℃
5）實驗環(huán)境：腔體密閉，可通隋性氣氛
6) 冷卻方式：循環(huán)水冷

配套部件：循環(huán)冷卻水泵;熱臺溫度控制儀;溫度控制軟件;制箔器等

三、CK-850型850度高溫熱臺軟件控制曲線：