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簡單型透射偏光熔點(diǎn)儀 XPR-200

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一、儀器的用途  透射熱臺偏光顯微鏡是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗(yàn)等部門和相關(guān)高等院校的高分子等專業(yè)的專業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器

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一、儀器的用途

  透射熱臺偏光顯微鏡是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗(yàn)等部門和相關(guān)高等院校的高分子等專業(yè)的專業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器。與光學(xué)或電子顯微鏡配合使用,在微觀上觀察其溶化、升華、結(jié)晶過程中的狀態(tài)和各種變化。
  專為材料學(xué)、生物化學(xué)、冶金學(xué)、有機(jī)化學(xué)、高分子材料學(xué)而研制。觀察高聚物熔融和結(jié)晶過程中的形態(tài),結(jié)晶速率及動力學(xué)計算;觀察雙折射體的光學(xué)效應(yīng);微生物形貌觀察;組織細(xì)胞核、壁形態(tài)觀察;地質(zhì)材料偏光形態(tài)觀察;無機(jī)晶體材料觀察,特別對含有結(jié)晶體的材料進(jìn)行熱性能變化的研究更為重要。

二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡
類別 放大倍數(shù) 視場(mm)
大視野目鏡 10X φ18
2.物鏡
類別 放大倍數(shù) 數(shù)值孔徑(NA) 工作距離(mm)
無應(yīng)力平場
消色差物鏡
4X 0.1 17.5
10X 0.25 6.6
40X 0.65 0.64
100X 1.25 0.19
3.光學(xué)放大倍數(shù):40X 100X 400X 1000X
4.目鏡管:轉(zhuǎn)軸式(傾斜30°)360°旋轉(zhuǎn) 含檢振片
5.起振片:可轉(zhuǎn)動蕩
6.載物臺:機(jī)械式附加旋轉(zhuǎn)臺面 尺寸 φ100mm, 360°旋轉(zhuǎn)
7.調(diào)焦機(jī)構(gòu):粗微動同軸,齒輪轉(zhuǎn)動 , 帶限位及調(diào)節(jié)松緊機(jī)構(gòu)
8.聚光鏡:阿貝聚光鏡NA1.25,升降上下可調(diào)
9.光源:鎢鹵素?zé)?V/20W,亮度可調(diào)
10.防霉系統(tǒng):防霉
11.成像系統(tǒng):配置日本JVC高像素CCD,像素達(dá)47萬;
12.高精熔點(diǎn)測定儀(具體參數(shù)見熔點(diǎn)儀資料)
  ①電壓:220V±10%,AC45-60HZ
  ②溫度設(shè)定方式:數(shù)字顯示、預(yù)置
  ③溫度控制范圍:室溫-300℃
  ④溫度精度:±1℃; 控制精度:±1%
  ⑤測試量:小于0.1mg
  ⑥系統(tǒng)工作環(huán)境溫度:15-40℃

三、系統(tǒng)組成
電腦型 (XPR-200V):1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D(圖像采集) 5.N型熱臺
數(shù)碼型 (XPR-200D):1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數(shù)碼相機(jī) 4.N型熱臺

四、總放大參考倍數(shù)
XPR-200V型:40--4000倍      XPR-200D型:100--2000倍

五、選購件
1.目鏡:16X(Φ11mm)  2.物鏡:20X 60X 80X   4. 圖像測量軟件


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