一、亮點(diǎn)
1）10ppm------檢測(cè)極限
由于XRF譜圖背景低于EDS譜圖，Micro-XRF可實(shí)現(xiàn)微量元素分析
2）4mm/s------移動(dòng)速度
可選的、快速樣品、支持大面積的高速面分析
3）1 nm - 40um層厚度范圍
可分析從1 nm到40 um具有多層結(jié)構(gòu)的薄膜
4）微區(qū) XRF 是 SEM 中 EDS 分析的互補(bǔ)分析技術(shù)
a）掃描電子顯微鏡（SEM）的微區(qū) X 射線熒光 （Micro-XRF） 技術(shù)是與傳統(tǒng)能量分散光譜（EDS）能力補(bǔ)充的無損分析技術(shù)。這種分析技術(shù)對(duì)于未知樣品中元素成分的表征非常重要，而未知樣品的尺寸可以從厘米尺寸的不均勻樣品到微米尺寸的顆粒
b）X射線激發(fā)源為微量元素的檢測(cè)帶來了更高的靈敏度（對(duì)于某些元素，檢出限可低至 10ppm）。同時(shí)，光譜范圍可以拓延（高達(dá)40 keV）以及探測(cè)深度可以更深
c）配備 X 射線管，結(jié)合微聚焦 X 射線光學(xué)器件，可產(chǎn)生 30 μm 的小束斑和高強(qiáng)度通量
d）模塊化基于壓電的樣品臺(tái)，專門設(shè)計(jì)用于安裝在現(xiàn)有SEM 樣品臺(tái)上，使大面積高速元素X射線面分析"飛一樣地"運(yùn)行，速度高達(dá)4毫米/秒。這使得在 50 x 50 mm（或更大）的樣本面積上采集 X 射線面分布數(shù)據(jù)成為可能。同時(shí)，輕元素光譜數(shù)據(jù)以及微量元素和/或更高能量的 X 射線數(shù)據(jù)也納入快速且用戶友好的工作流中
e）X射線激發(fā)的樣品深度更深，這讓多層系統(tǒng)的表征成為可能。1 nm到高達(dá)40μm 的薄膜樣品均可以分析，而這是用電子束源激發(fā)無法實(shí)現(xiàn)的
二、優(yōu)勢(shì)
通過 Micro-XRF 和快速樣品臺(tái)擴(kuò)展您的 SEM 分析能力
a）雙束電壓，包括電子束和X射線束，這為材料表征提供了新的可能性 - 可以同時(shí)使用兩個(gè)束源來調(diào)查樣品
b）使用相同的探測(cè)器同時(shí)進(jìn)行電子束/微區(qū)XRF信號(hào)采集，包括輕元素光譜數(shù)據(jù)，微量元素和/或更高能量X射線數(shù)據(jù)
c）XTrace和 快速樣品臺(tái) 都無縫集成到 ESPRIT軟件中
d）EDS 和 微區(qū)XRF 定量方法相結(jié)合，將電子激發(fā)的更好的輕元素靈敏度與 XRF 更好的微量元素表征靈敏度相結(jié)合，產(chǎn)生更完整的樣品表征結(jié)果
e）與微區(qū) XRF 和 電子束同步面分析表征，結(jié)合兩個(gè)技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。使用電子束激發(fā)較輕的元素（碳到鈉），使用微區(qū) XRF激發(fā)較重的元素
f）剝離的譜峰峰值和擴(kuò)展的光譜范圍讓用戶能夠看到高能量 K 線，因?yàn)樗鼈儾粡?fù)雜且重疊峰更少
g）幾乎不需要樣品制備 – 不導(dǎo)電樣品表面，也無需拋光
h）包含無標(biāo)樣和有標(biāo)樣定量模型
i）在um尺度且低濃度水平下，也能同時(shí)分析輕元素和重元素
三、相關(guān)應(yīng)用圖片
