SamcoInternational是始于1979年的等離子蝕刻與沉積系統(tǒng)制造商；日本的客制Plasma和Deposition設備供應商；日本京都、美國硅谷、英國劍橋、中國上海、中國臺灣和東南亞都有我們的設備和服務支持

Samco International是始于1979年的等離子蝕刻與沉積系統(tǒng)制造商；日本的客制Plasma和Deposition設備供應商；日本京都、美國硅谷、英國劍橋、中國上海、中國臺灣和東南亞都有我們的設備和服務支持。Samco International為混合半導體、MEMS(微機電系統(tǒng))、光電、失效分析以及其他市場制造各種各樣的系統(tǒng)。我們的產品在業(yè)內以系統(tǒng)占地面積最小、性價比著稱，且生產可靠性久經考驗。從整套生產需要工具、到簡單的實驗室系統(tǒng)，Samco International均有提供。

反應性離子蝕刻，簡稱為RIE，各種反應器廣泛使用的方法，便是結合(1)物理性的離子轟擊與(2)化學反應的蝕刻。此鐘方式兼具非等向性與高蝕刻選擇比等雙重優(yōu)點，蝕刻的進行主要靠化學反應來達成，以獲得高選擇比。加入離子轟擊的作用有二：一是將被蝕刻材質表面的原子鍵結破壞，以加速反應速率。二是將再沉積于被蝕刻表面的產物或聚合物(polymer)打掉，以使被蝕刻表面能再與蝕刻氣體接觸。

RIE-10NR反應離子蝕刻設備特點：