全新的操作系統(tǒng)機(jī)構(gòu)，采用人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)，限度減輕操作者的使用疲勞，模塊化的部件設(shè)計(jì)，可對(duì)系統(tǒng)功能進(jìn)行自由組合，滿足工業(yè)檢測(cè)與金相分析的專業(yè)領(lǐng)域需求。

1.產(chǎn)品用途：

全新的操作系統(tǒng)機(jī)構(gòu)，采用人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)，限度減輕操作者的使用疲勞，模塊化的部件設(shè)計(jì)，可對(duì)系統(tǒng)功能進(jìn)行自由組合，滿足工業(yè)檢測(cè)與金相分析的專業(yè)領(lǐng)域需求。

2.產(chǎn)品特點(diǎn)：

●采用平場(chǎng)消色差光學(xué)系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，同時(shí)在落射照明系統(tǒng)中設(shè)計(jì)防反射結(jié)構(gòu)，有效防止反射光干憂成像光線。從而使成像更清晰、視場(chǎng)襯度更好。

●提供穩(wěn)定可靠的操作機(jī)構(gòu)，使成像更清晰，操作更簡(jiǎn)便。

●顯微鏡鏡體采用全新的人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)勻稱，實(shí)現(xiàn)鏡體擴(kuò)展積木化。

●工作臺(tái)、光強(qiáng)與粗微調(diào)的低位操作，提高了使用的舒適性。

●廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體硅晶片檢測(cè)、材料科學(xué)研究、地質(zhì)礦物分析及精密工程等學(xué)科領(lǐng)域。

3.主要功能

●光學(xué)顯微鏡是根據(jù)凸透鏡的成像原理，要經(jīng)過凸透鏡的兩次成像。次先經(jīng)過物鏡（凸透鏡1）成像，這時(shí)候的物體應(yīng)該在物鏡(凸透鏡1）的一倍焦距和兩倍焦距之間，根據(jù)物理學(xué)的原理，成的應(yīng)該是放大的倒立的實(shí)像。而后以次成的物像作為“物體”，經(jīng)過目鏡的第二次成像

●測(cè)量——可測(cè)量平面上的任何幾何圖形之尺寸(角度、長(zhǎng)度、直徑、半徑、點(diǎn)到線的距離、圓的偏心、兩圓間距等)?

●標(biāo)注——可在實(shí)時(shí)影像中的實(shí)際工件上標(biāo)注各種幾何尺寸。

●拍照——可拍下實(shí)物照片，包括所標(biāo)注的尺寸。

●直接輸入圓、線段：可按需要輸入標(biāo)準(zhǔn)的圓或線(客戶自己定義圓、線的大小、長(zhǎng)度和坐標(biāo)位置)。再以標(biāo)準(zhǔn)的圓、線與影像中的實(shí)物比較，從而找到工件的誤差。

●以極坐標(biāo)方式輸入線：可按客戶需要以極坐標(biāo)的方式輸入標(biāo)準(zhǔn)線段。

●自設(shè)客戶坐標(biāo)：可以根據(jù)客戶本身的需要，自行在實(shí)時(shí)影像上設(shè)定坐標(biāo)原點(diǎn)(0，0)。

●坐標(biāo)標(biāo)注：以自己所設(shè)定之坐標(biāo)原點(diǎn)(0，0)為基準(zhǔn)，標(biāo)注實(shí)時(shí)影像中任意一點(diǎn)的坐標(biāo)位置。

●捕捉交點(diǎn)：可以自動(dòng)捕捉兩線的交點(diǎn)。

5.工作條件

●避免將顯微鏡放置在有陽光直射、高溫或高濕、多塵、以及容易受到強(qiáng)烈震動(dòng)的地方，確保工作表面平坦并水平。工作環(huán)境要求：室溫 5℃～40℃，相對(duì)濕度 80%。

●工作時(shí)，燈源表面會(huì)變得非常熱，應(yīng)確保燈源周圍有足夠的散熱空間。

●將本機(jī)接地，避免雷擊。

6.技術(shù)參數(shù)：