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Saphir Vibro 振動拋光機

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SaphirVibro振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設(shè)計，是用于進一步材料表征，如EBSD（背散射電子衍射），AFM（原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設(shè)備

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      Saphir Vibro 振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設(shè)計，是用于進一步材料表征，如 EBSD（背散射電子衍射），AFM （原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設(shè)備。

■ 特 點：

  • 可快速更換的帶磁性系統(tǒng)的拋光池

  • 從 60-120 Hz 的自動頻率控制

  • “Surface-Guard” 功能降低試樣磨料結(jié)晶和試樣表面腐蝕的機率

  • 預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單

  • 低工作噪音和吸振式結(jié)構(gòu)設(shè)計

  • 軟閉合式防護罩和排氣接口 

  • 可存儲多達 200 個制備程序

■ 參 數(shù)：

拋光池內(nèi)徑? 308 mm (拋光布直徑 ?300 mm or ?305 mm)
振動頻率60 - 120 Hz
接口USB, Ethernet
連接電源0.25 kVA
運行功率135 VA
寬 x 高 x 深510 x 300 x 590 mm
重量~ 45 kg


Saphir Vibro 振動拋光機(圖3)Saphir Vibro.pdf


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