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    工業(yè)顯微鏡LV100ND/LV100DA-U

    新的光學系統(tǒng)令ECLIPSE煥發(fā)新風采

    ECLIPSE顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業(yè)應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSELV系列經過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學系統(tǒng)和功能，可根據觀察方法和目的選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應用需求。

    CFI60-2經過改進的光學性能

    以的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康CFI60光學系統(tǒng)

    經過進一步改進，具有長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。

    輕松的操作

    與數碼相機集成現(xiàn)可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更高效地進行觀察和圖像拍攝。

    觀察方法

    可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。