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芬蘭PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)

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公司名稱 北京伯英科技有限公司
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型號(hào)
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2025/2/24 10:27:01
訪問次數(shù) 9

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人TuomoSuntola創(chuàng)立的，與Picosun專家隊(duì)伍被稱為ALD的

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人Tuomo Suntola創(chuàng)立的，與Picosun專家隊(duì)伍被稱為ALD的。

Suntola于1974年發(fā)明ALD技術(shù)，因此獲得半導(dǎo)體行業(yè)European SEMI 2004獎(jiǎng)。

PICOSUN公司憑借其杰出的生產(chǎn)型與科研型產(chǎn)品，于2022年6月加入美國應(yīng)用材料公司。

PICOSUN產(chǎn)品分為科研型與生產(chǎn)型。

科研型產(chǎn)品有：

標(biāo)準(zhǔn)型PICOSUN™ R-200 Standard，只有熱法原子層沉積系統(tǒng)

高級(jí)型PICOSUN™ R-200 Advanced，有熱法原子層沉積系統(tǒng)與等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)

高級(jí)型ALD可以添加前沿的微波等離子體輔助增強(qiáng)模塊Microwave Plasma, 這種微波等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)在顆粒、薄膜致密性表現(xiàn)更好，同時(shí)有可能沉積具有挑戰(zhàn)性的一些氮化物薄膜，如氮化硅等。