適合于工業(yè)過程水和廢水過程處理中的哈希Astro TOC™ UV TOC分析儀。利用化學氧化和紫外氧化技術，在低溫條件下，直接測量樣品中總有機碳（TOC）和總碳（TC）含量。

儀器簡介：

哈希Astro TOC™ UV TOC分析儀典型應用：

適合于工業(yè)過程水和廢水過程處理中的在線TOC分析儀

檢測原理：

利用化學氧化和紫外氧化技術，在低溫條件下，直接測量樣品中總有機碳（TOC）和總碳（TC）含量。

技術參數：

測量范圍：0～5到20000mg/L，TOC，多種量程可以選擇。

準 確 度：25℃時，滿量程的±2％（非稀釋）

重 現 性：讀數的±2％，25℃時，不稀釋

檢出下限：25℃時，＜0.015mg/L，(0～5mg/L量程)

響應時間：T90＜8miin

載氣種類：清潔、無CO2空氣或氮氣，壓力為2.8～6.2bar， 流量為20～

200ml/min

樣品溫度：2～70℃

操作溫度：5～40℃

模擬輸出：兩路4～20mA模擬信號輸出，用戶可以選擇相應量程值

報警設定：5個報警可供選擇，分別為樣品濃度報警、分析儀系統(tǒng)報警或系統(tǒng)停

機報警。

串行通訊：1個多功能的RS232或RS485串行接口（MODBUS，CSV）

電源要求：115/230VAC，50/60HZ

樣品入口：1/4英寸外徑管，壓力接頭

樣品出口：1/4英寸外徑管，壓力接頭

儀器認證：CE、UL和CSA

哈希Astro TOC™ UV TOC分析儀主要特點：

● 專為工業(yè)應用設計，適應各種惡劣環(huán)境

● 先進的自診斷功能，

● 靈活的分析系統(tǒng)，可分析鹽份含量高和難以氧化的樣品

● 無漂移、無干擾的NDIR檢測器

● 可以進行自動零點校正、量程校正，單點驗證（系統(tǒng)檢查）

● 儀器自動清洗功能。