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更多>用途:
G5310氣體濃度分析儀是一款專門設(shè)計(jì)用來(lái)測(cè)量大氣中N?O和一氧化碳(CO)的高精度儀器。中紅外 (mid-IR) 光腔衰蕩光譜技術(shù) (CRDS) 以低于 5 秒的間隔在 1 至 1500ppb 的測(cè)量范圍內(nèi)達(dá)到萬(wàn)億分之一 (ppt) 的精度。因?yàn)槠菩∮?0.1 ppb,分析儀不需要頻繁校準(zhǔn)和維護(hù)。水汽(H 2 O)測(cè)量精度達(dá)百萬(wàn)分之一 (ppm),用于校正和報(bào)告以干摩爾分?jǐn)?shù)表示的N2O和CO濃度。
特點(diǎn):
·同時(shí)測(cè)量 N2O 和CO氣體濃度,精度可達(dá)20ppt
·優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和低漂移
·測(cè)量水汽,并報(bào)告干摩爾分?jǐn)?shù)
·壓力和溫度穩(wěn)定性
·滿足世界氣象組織(WMO)溫室氣體兼容性目標(biāo)和綜合碳觀測(cè)系統(tǒng)(ICOS)大氣監(jiān)測(cè)站規(guī)范的要求
技術(shù)規(guī)格:
G5310性能規(guī)格 | N?O | CO | H?O | |
精度(1σ,5秒) 精度(1σ,5分鐘) 精度(1σ,1小時(shí) | < 0.2 (N2O < 500 ppb) 典型值 = 0.10 ppb* < 0.04 ppb (N2O < 500 ppb) 典型值 = 0.015 ppb* < 0.02 ppb (N2O < 500 ppb) | < 0.2 (CO < 400 ppb) 典型值 = 0.13 ppb* < 0.04 ppb (CO < 400 ppb) 典型值 = 0.019 ppb* < 0.02 ppb (CO < 400 ppb) | <40 ppm <6 ppm -- | |
精度(1σ,5分鐘) | 0.03 % 的 N2O 讀數(shù) (N2O > 500 ppb) | 0.02 % 的CO讀數(shù)(CO > 400 ppb) | <6 ppm | |
漂移(24 小時(shí)) | < 0.1 ppb 典型值 = 0.036 ppb* | < 0.1 ppb 典型值 = 0.046 ppb* | -- | |
測(cè)量范圍 | 1–1500 ppb | 1–1500 ppb | 0–3% | |
測(cè)量間隔 | < 5 秒 典型值 = 2.7 秒* | |||
Picarro G5310系統(tǒng)規(guī)格 | ||||
測(cè)量技術(shù) | 光腔衰蕩光譜學(xué) (CRDS) | |||
測(cè)量池溫度控制 | ±0.005 ℃ | |||
測(cè)量池壓力控制 | ±0.0002 大氣壓 | |||
樣品溫度 | -10~+45 ℃ | |||
樣品壓力 | 40~133Kpa | |||
樣品流量 | 100 標(biāo)準(zhǔn)立方厘米每分鐘 (sccm) | |||
樣品濕度 | < 99% 相對(duì)濕度(在40 ℃無(wú)冷凝條件下),無(wú)須干燥 | |||
環(huán)境溫度 | 15 至 35 ℃(工作條件) -10 至 50 ℃(貯存條件) | |||
環(huán)境濕度 | <85% 相對(duì)濕度(無(wú)冷凝條件下) | |||
附件 | 鍵盤,鼠標(biāo),液晶顯示器(可選) | |||
數(shù)據(jù)輸出 | RS-232,以太網(wǎng),USB | |||
進(jìn)氣口接頭 | ? 英寸Swagelok ® | |||
尺寸(L*W*H) | L69xW43xH32cm | |||
安裝形式 | 工作臺(tái)式 | |||
重量 | 43Kg,包括內(nèi)置泵 | |||
功耗 | 100~240 伏交流電,47~63 Hz(自動(dòng)感應(yīng)),啟動(dòng)時(shí)375W,運(yùn)行時(shí)200W | |||
*典型性能定義為按順序制造的 41 臺(tái) G5310 分析儀的測(cè)試結(jié)果的中位數(shù)。可索取結(jié)果。
兼容的外圍設(shè)備:16 路氣體進(jìn)樣系統(tǒng) (A0311)
有關(guān)可部署性的注釋:G5310 分析儀僅設(shè)計(jì)用于靜態(tài)安裝,不適用于移動(dòng)平臺(tái)。
如須進(jìn)行野外部署,請(qǐng)向點(diǎn)將科技咨詢直流電源的設(shè)置。
產(chǎn)地:美國(guó)
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2025廣州國(guó)際分析測(cè)試及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備展覽會(huì)暨技術(shù)研討會(huì)
展會(huì)城市:廣州市展會(huì)時(shí)間:2025-03-05