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G2308高精度N2O CH4 H2O氣體濃度分析儀

來(lái)源:點(diǎn)將(上海)科技股份有限公司   2023年03月03日 08:48  

用途:

      Picarro G2308 氣體濃度分析儀通過(guò)同時(shí)測(cè)量土壤排放物中的三種重要溫室氣體(N2O、CH4 和 H2O),從根本上簡(jiǎn)化了土壤通量研究。土壤和大氣之間的溫室氣體交換是全球氮和碳循環(huán)中的關(guān)鍵步驟。

      G2308 采用閉路或開路配置輕松與土壤呼吸室進(jìn)行兼容,無(wú)需裝配和同步單獨(dú)的氣體分析儀來(lái)觀察所有主要溫室氣體行為。

      該分析儀采用精確的光腔衰蕩光譜 (CRDS) 技術(shù),可同時(shí)實(shí)時(shí)測(cè)量原位氣體濃度,靈敏度可達(dá)十億分之一 (ppb),所產(chǎn)生的漂移可忽略不計(jì)。

      G2308 采用 Picarro的軟件算法來(lái)自動(dòng)進(jìn)行水汽校正。以百萬(wàn)分之一 (ppm) 的精度來(lái)測(cè)量水汽,從而以干氣摩爾分?jǐn)?shù)來(lái)校正和報(bào)告 N2O 和 CH4 濃度。

圖片關(guān)鍵詞

特點(diǎn):

• 實(shí)現(xiàn)環(huán)境濃度和更高濃度下 N2O 和 CH4 ppb 級(jí)精度測(cè)量

• 與呼吸腔室易兼容

• 與閉路或開路系統(tǒng)都可聯(lián)用

• 自動(dòng)計(jì)算和報(bào)告干氣摩爾分?jǐn)?shù)

• 檢測(cè)并標(biāo)記具有潛在干擾的數(shù)據(jù)

 

技術(shù)規(guī)格:

Picarro G2308 系統(tǒng)規(guī)格

測(cè)量技術(shù)

光腔衰蕩光譜(CRDS)技術(shù)

測(cè)量池溫度控制

±0.005 ℃

測(cè)量池壓強(qiáng)控制

±0.0002 大氣壓

樣品溫度

-10~45 ℃

樣品壓力

40~133KPa

樣品流量

約 230 標(biāo)準(zhǔn)毫升每分鐘 (sccm)

樣品濕度

相對(duì)濕度 (RH) 小于 99%,無(wú)冷凝條件下,水汽校正測(cè)試至 25 ℃ 露點(diǎn)

環(huán)境溫度

+10 ℃ ~+35 ℃

環(huán)境濕度

相對(duì)濕度 (RH) 小于 99%,無(wú)冷凝條件下

閉路 / 循環(huán)能力

與 Picarro 封閉系統(tǒng)泵 A0702 兼容

進(jìn)氣口接頭

? 英寸 Swagelok®

尺寸

分析儀:L44.6×W43.2×H17.8cm,不含0.5英寸墊腳

重量

22.6 Kg

安裝形式

工作臺(tái)式(標(biāo)準(zhǔn))或 19 英寸機(jī)架安裝底盤(可選)

功耗

100-240 伏交流電,47-63 赫茲(自動(dòng)感應(yīng)),啟動(dòng)時(shí)總功率<260瓦;穩(wěn)定狀態(tài)下 110W

附件(隨附)

隨附:鍵盤、鼠標(biāo)。選配:LCD 監(jiān)視器。不含:真空泵

選件

A0702,Picarro 封閉系統(tǒng)泵

S0528,O2 傳感器,用于 O2測(cè)量以及在O2不斷變化的環(huán)境中起校正作用

S0517, CH4 擴(kuò)展工作范圍可達(dá) 800 ppm

Picarro G2308 確保性能規(guī)格(在空氣中)

N2O

CH4

H?O

初始精度(1-σ)

< 25 ppb + 0.05% 讀數(shù)

< 10 ppb + 0.05% 讀數(shù)

< 500 ppm

1 分鐘時(shí)的精度 (1σ)

< 10 ppb + 0.05% 讀數(shù)

< 7 ppb + 0.05% 讀數(shù)

< 250 ppm

5 分鐘時(shí)的精度 (1σ)

< 3.5 ppb + 0.008% 讀數(shù)

< 3 ppb + 0.02% 讀數(shù)

< 100 ppm

確保精度范圍

0.3-200 ppm

1-15 ppm

0-3%

測(cè)量范圍

0-400 ppm

0-20 ppm

0-7%

測(cè)量間隔(數(shù)據(jù)采集速率)

<6S

<10S

<8S

氣體響應(yīng)

<10S

<10S

-






分析儀特異性:Picarro 光腔衰蕩光譜 (CRDS) 技術(shù)采用較窄的光譜區(qū)域。與其它光譜測(cè)量技術(shù)相比,這大大降低了其它氣體組分產(chǎn)生干擾的可能性。但在實(shí)際樣品中,干擾時(shí)有發(fā)生。Picarro 分析儀附裝有干擾檢測(cè)軟件,并就該分析儀受以下組分的影響進(jìn)行了測(cè)試和表征:

Picarro G2308 痕量氣體

N2O 受干擾的敏感度

二氧化碳

無(wú) - 自動(dòng)校正至 20000 ppm CO2

甲烷

無(wú) - 自動(dòng)校正至 200 ppm CH4

無(wú) - 自動(dòng)校正至 2 ppm NH3

乙烷

0.2 ppb N2O / ppm C2H6,測(cè)試至 120 ppm

乙烯

0.5 ppb N2O / ppm C2H4 ,測(cè)試至 16 ppm

乙炔

不適用于乙炔實(shí)驗(yàn)

背景氣體

設(shè)計(jì)用于環(huán)境氣體,不適用于高度變化或濃縮 N2、O2、H2或He 背景氣體

ChemDetect™ 軟件

Picarro 算法能夠檢測(cè)和標(biāo)記因光譜干擾導(dǎo)致可能不準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)

產(chǎn)地: 美國(guó)


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