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簡介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...

簡介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...

簡介：日立ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)...

簡介：AFM5100N除了激光檢測方式之外，全新的「自檢測懸臂」，在保證高分辨表面形貌觀察的同時(shí)，大大簡化了AFM懸臂操作。·特點(diǎn)1.簡便的懸臂安裝通常的懸臂是非常渺小而且很難操作，內(nèi)部裝有傳感器的「自...

簡介：AFM5300E是一款環(huán)境型原子力顯微鏡，它的環(huán)境控制單元可以使樣品在大氣中、真空中、溶液中等環(huán)境中進(jìn)行測量。AFM5300E還具有高低溫控制功能，可以檢測溫度對樣品表面形貌和物理特性的影響?！ぬ?..

簡介：標(biāo)準(zhǔn)配備改良過的測量參數(shù)自動(dòng)調(diào)整功能，以及簡單明了的圖形用戶界面。因此，即使是剛剛接觸SPM的人，或者測量某種全新的樣品時(shí)，也能取得具有較高再現(xiàn)性的數(shù)據(jù)。·特點(diǎn)1.RealTune?II的測量參數(shù)...

簡介：標(biāo)配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器（附自動(dòng)校正功能）搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場FE電子槍鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機(jī)體的性能大幅度提升觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時(shí)觀察原子分辨率SE圖像采...

簡介：1)支持超大/超重樣品測試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標(biāo)配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉，可應(yīng)對高度為80mm、重量為2kg的樣品?！癝U3900”作為日立的大型掃描電鏡，標(biāo)配可搭載直徑3...

簡介：AFM5500M是操作性和測量精度大幅提高，配備4英寸自動(dòng)馬達(dá)臺的全自動(dòng)型原子力顯微鏡。設(shè)備在懸臂更換，激光對中，測試參數(shù)設(shè)置等環(huán)節(jié)上提供全自動(dòng)操作平臺。新開發(fā)的高精度掃描器和低噪音3軸感應(yīng)器使測...

簡介：臺式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級。我們以“更高畫質(zhì)、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發(fā)出TM4000系列。在此基礎(chǔ)上，我們又推出功能更為多樣的TM4000Ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應(yīng)用...