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簡介：1.搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒HR模式下可實現(xiàn)高分辨觀察（半內(nèi)透鏡）FF模式下可實現(xiàn)高精度加工終點檢測（TimesharingMode）2.高通量加工可通過高電流密度FIB實現(xiàn)快速加工（束...

簡介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...

簡介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...

簡介：日立ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個領域的研發(fā)...

簡介：1)支持超大/超重樣品測試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉，可應對高度為80mm、重量為2kg的樣品?！癝U3900”作為日立的大型掃描電鏡，標配可搭載直徑3...

簡介：臺式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級。我們以“更高畫質(zhì)、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發(fā)出TM4000系列。在此基礎上，我們又推出功能更為多樣的TM4000Ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應用...

簡介：FlexSEM1000II，憑借全新設計的電子光學系統(tǒng)和高靈敏度檢測器，可在加速電壓20kV下實現(xiàn)4.0nm的分辨率。全新開發(fā)的用戶界面，具有亮度和對焦自動調(diào)節(jié)功能，可以在短時間內(nèi)進行各種觀察。此...

簡介：

簡介：核心理念采用優(yōu)異的成像技術SU7000可以迅速獲取從大視野全貌圖到表面微細結(jié)構(gòu)等多種檢測信號。全新設計的電子光學系統(tǒng)和檢測系統(tǒng)，使得裝置可以同時接收二次電子和背散射電子等信號，用戶可以在短時間內(nèi)獲...

簡介：沿用"SU8200系列"的冷場發(fā)射電子槍*2采用電子束在Flashing后出現(xiàn)的高亮度穩(wěn)定區(qū)域作為穩(wěn)定觀察的區(qū)間，使得低加速電壓條件下兼?zhèn)涓叻直嬗^察和分析的性能(Regulus8240/8230/...