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簡(jiǎn)介：?Apreo革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生的高分辨率和信號(hào)選擇

簡(jiǎn)介：MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統(tǒng)：新型電子光學(xué)系統(tǒng)，可達(dá)到高水準(zhǔn)的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率，使得高品質(zhì)TEM樣品制備成為可能可用于截面加工...

簡(jiǎn)介：追求的TEM樣品制備工具在設(shè)備及高性能納米材料的評(píng)價(jià)和分析領(lǐng)域，F(xiàn)IB-SEM已成為的工具。近來，目標(biāo)觀察物更趨微細(xì)化；更薄，更低損傷樣品的制備需求更進(jìn)一步凸顯。日立高新公司，整合了高性能FIB技...

簡(jiǎn)介：追求理想的三維結(jié)構(gòu)分析通過自動(dòng)重復(fù)使用FIB制備截面和進(jìn)行SEM觀察，采集一系列連續(xù)截面圖像，并重構(gòu)特定微區(qū)的三維結(jié)構(gòu)。采用的鏡筒布局，從材料、設(shè)備到生物組織——在寬廣的領(lǐng)域范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)機(jī)型難以...

簡(jiǎn)介：1.搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒HR模式下可實(shí)現(xiàn)高分辨觀察（半內(nèi)透鏡）FF模式下可實(shí)現(xiàn)高精度加工終點(diǎn)檢測(cè)（TimesharingMode）2.高通量加工可通過高電流密度FIB實(shí)現(xiàn)快速加工（束...

簡(jiǎn)介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...

簡(jiǎn)介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...

簡(jiǎn)介：日立ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)...

簡(jiǎn)介：1)支持超大/超重樣品測(cè)試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標(biāo)配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉(cāng)，可應(yīng)對(duì)高度為80mm、重量為2kg的樣品。“SU3900”作為日立的大型掃描電鏡，標(biāo)配可搭載直徑3...

簡(jiǎn)介：臺(tái)式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級(jí)。我們以“更高畫質(zhì)、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發(fā)出TM4000系列。在此基礎(chǔ)上，我們又推出功能更為多樣的TM4000Ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應(yīng)用...